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超高真空多腔體磁控濺射系統
技術參數：
基板：可加熱至RT-900oC，可旋轉，基板與靶材距離連續可調，晶圓和靶空間可以連續變化
極限真空：<3E-9Torr
基板傳輸：高度可靠和可重復的基板傳輸能力
廈門韞茂科技有限公司憑借在先進材料設備業務方面多年的經驗，韞茂為新型芯片，半導體和鋰電池領域的新材料開發和生產，提供最先進的納米工藝設備和服務解決方案。根據您的特殊需求，我們為您定制打造創新納米加工平臺，保證高品質的設計，多功能，易于使用的界面，嚴格的安全控制，以及快速的交付和服務。
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