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快速熱處理設備通過特殊的溫度控制算法和業界驗證的晶圓自轉系統實現晶圓面內的精確溫度控制和顆粒控制;其升降溫快速、熱預算控制精確等特點,應用于離子注入后的晶格修復與雜質激活,STI、Gate Oxide之后的修復與致密化,以及在接觸孔工藝中歐姆接觸的形成。
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產品質量
售后服務
易用性
性價比
晶圓表面顆粒物快速檢測系統(PDS)
電子束光刻機
CVD 真空化學氣相沉積設備
馬爾文帕納科XRD系列晶向定位
紅外氣體傳感器 Gasboard-2060
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