儀器簡介：

光刻機/紫外曝光機 (Mask Aligner)

原產國: 韓國，**能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比

型號：KCMA-100；

又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統，光刻機，紫外曝光機等；

ECOPIA為全球**的半導體設備供應商，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前世界上*早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力；并且其設備被眾多**企業、研發中心、研究所和高校所采用；以優秀的技術、精湛的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。

感謝南開大學，中科院半導體所，中科院長春應化所，中科院物理所，浙江師范大學使用此設備做課題研究！！

此型號光刻機是所有進口設備中性能價格比**的型號，達到歐美品牌的對準精度，CCD顯示屏對準更為方便，液晶觸摸屏操作，采用歐司朗紫外燈，壽命長。整機效果皮實耐用，正常使用3年內不會出問題！！

目前，上海藍光已采用該公司全自動型光刻機做LED量化生產，證明其品質達到LED產業標準要求！！而且已經成功提供圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻工藝設備.

技術參數：

- 基片尺寸：4、6、8、12、25英寸，其他尺寸可定制；

- 光束均勻性：<±3%；

- 曝光時間可調范圍：0.1 to 999.9秒；

- 對準精度：0.6-1微米

- 分辨率：1微米；

- 光束輸出強度：15-25mW/cm2；

主要特點：

- 光源強度可控；

- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；

- 系統控制：手動、半自動和全自動控制；

- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調)，Proximity接近模式， 投影模式；

- 真空吸盤范圍可調；

- **技術：可雙面對準，可雙面光刻，具有IR和CCD模式

-兩個CCD顯微鏡系統，**放大1000倍，顯示屏直接調節，比傳統目鏡對準更方便快捷，易于操作。

- 特殊的基底卡盤可定做；

- 具有楔形補償功能；