磁控濺射鍍膜機(jī) - 緊湊，適合科研，極高性價(jià)比！

型號(hào)：AP-MMS1

產(chǎn)地：韓國(guó)原裝進(jìn)口

儀器特點(diǎn)：

1/ 沉積材料：金屬、氧化物等；

2/ 膜厚均勻性：≤ ± 5 % (4英寸基底)；

3/ 沉積方式：直流磁控濺射，射頻磁控濺射；

4/ 極限真空：5.0 x 10 ^-6 Torr；

技術(shù)規(guī)格：

1/ **樣品尺寸：6英寸；

2/ 基底旋轉(zhuǎn)：0~10rpm；

3/ 不銹鋼腔體，ID250 x H300 mm；

4/ 真空泵：機(jī)械泵，150L/Min；

5/ 靶槍：2英寸直徑 (選配：3英寸)；

6/ 直流電源：2KW(800V - 2.5A)；

7/ 氣體傳輸模塊：MFC控制，氬氣，100sccm；