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噴射化學氣相沉積(Spray CVD)
產地：法國AS；
- 主要用于太陽能電池氧化物、半導體、電光涂層、絕緣層、超導體、固體燃料電池等的材料制備及薄膜沉積。
- 2inch小型噴射化學氣相沉積設備，主要用于實驗室。沉積及退火在同一個腔體內完成。
性能和特點：
- 溫度范圍：室溫 ~ 1200攝氏度;
- *快升溫速度：250攝氏度/秒;
- 前驅體混合能力(帶有Atokit噴霧器);
- **真空度：10-6 Torr;
- 樣品尺寸：不大于2英寸;
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