中國粉體網訊 近日，江豐電子發布公告稱，公司擬通過定向增發募集資金不超過19.48億元，用于年產5,100個集成電路設備用靜電吸盤產業化項目、年產12,300個超大規模集成電路用超高純金屬濺射靶材產業化項目等項目。
進一步鞏固在靶材市場的江湖地位
濺射靶材應用于濺射薄膜沉積工藝，濺射沉積是一種物理氣相沉積（PVD）工藝，即在一定的真空環境下，利用荷能粒子轟擊材料表面，使材料表面濺射出粒子并沉積在基底表面形成薄膜。濺射薄膜沉積工藝可重復性好、膜厚可控，所制備的薄膜具有純度高、致密性好等優點，可用于集成電路產業的高性能薄膜制備，對集成電路產業發展具有重要推動作用。
在濺射沉積工藝中，被轟擊的目標材料稱為濺射靶材，系集成電路生產制造環節中的重要先進材料。根據弗若斯特沙利文報告，預計至2027年，全球半導體濺射靶材市場規模將達251.10億元，市場空間廣闊。
美國、日本的半導體靶材生產廠商長期居于全球市場的主導地位。江豐電子憑借持續的技術深耕與創新突破，打破了國內超高純金屬濺射靶材基本依靠進口的局面，填補了國內同類產品的技術空白，并已逐漸成長為國內超高純金屬濺射靶材產業的領先者，具備與同行跨國公司競爭的實力。
本次江豐電子募資項目“年產12,300個超大規模集成電路用超高純金屬濺射靶材產業化項目”將建設公司在韓國的生產基地，由公司全資孫公司捷豐先進材料科技有限公司（KFAMCO.，LTD.）實施，該項目建設將加速公司全球化戰略布局，實現對SK海力士、三星等重要客戶覆蓋，提升公司屬地化服務能力，為公司的國際化發展戰略奠定基礎。
緩解我國高端靜電吸盤供求失衡的局面
精密零部件作為半導體設備的關鍵構成要素及芯片生產制造過程中的重要消耗品，是半導體行業發展的關鍵支撐。
其中靜電吸盤是一種適用于真空環境或等離子體環境的超潔凈晶圓片承載體，其性能及品質會直接影響芯片制造的良率和效率。靜電吸盤使用壽命通常不超過2年，屬于消耗類零部件，市場需求大。當前，全球靜電吸盤市場基本由美國、日本等少數企業占據。
在半導體精密零部件領域，江豐電子憑借研發及制造方面強勁的技術優勢，現已具備4萬多種零部件的量產能力，相關產品廣泛應用于物理氣相沉積（PVD）、化學氣相沉積（CVD）、蝕刻機、離子注入機等半導體設備中，公司亦已成為國內多家知名半導體設備公司和國際一流芯片制造企業的核心零部件供應商。
2025年1月，江豐電子與KSTEINC.（以下簡稱“KSTE”）簽署了《關于靜電吸盤項目之合作框架協議》，公司向KSTE引進靜電吸盤生產技術及采購靜電吸盤生產線。
此次募資項目“年產5,100個集成電路設備用靜電吸盤產業化項目”目總投資額為109,790.00萬元，擬使用募集資金99,790.00萬元，旨在充分發揮公司半導體超高純金屬濺射靶材及精密零部件領域所積累的產研技術及客戶優勢，實現靜電吸盤產品的量產和銷售，以緩解我國高端靜電吸盤供求失衡的局面，助力我國半導體產業鏈的自主可控性。
關于江豐電子
公司主要專注于超高純金屬濺射靶材、半導體精密零部件的研發、生產和銷售。經過多年發展，公司已成功構建多個高水平的創新平臺，包括“寧波市企業工程技術中心”、“國家示范院士專家工作站”、“省級高新技術企業研發中心”、“國家博士后科研工作站”以及“浙江省重點企業研究院”。憑借卓越的研發能力和創新成果，公司的研發中心榮獲“國家級企業技術中心”的稱號。
2024年，公司實現營業收入36.05億元，同比增長38.57%；實現歸屬于上市公司股東的凈利潤4.01億元，同比增長56.79%；實現歸屬于上市公司股東的扣除非經常性損益后的凈利潤3.04億元，同比增長94.92%。
參考來源：江豐電子
（中國粉體網/山川）
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