一、產品特色

該款設備是全自動Plasma增強PECVD系統，連續可控溫度以及Plasma強度等，配備真空系統，可以低壓條件下進行實驗，PECVD系統能使整個實驗腔體都處于輝光產生區，輝光相對均勻等效，有效的解決了傳統等離子工作不穩定狀態，該設備爐管可360°旋轉，有助于粉料的燒結更均勻。

二、設備組成

1）加熱系統2）Plasma系統3）爐管轉動系統4）觸屏操作系統5）進出氣法蘭組件6）爐管 7）真空系統。

（1）加熱系統：

該加熱系統的加熱腔體采用氧化鋁纖維制品，其極低的熱導率和比熱容，保證了爐膛的快速升溫和低蓄熱，該系統設置有超溫、欠溫、斷偶報警保護功能，大大降低了對操作人員經驗的要求。溫區為單溫區，溫區長440mm，異形石英管規格采用Φ60*Φ100*1200。

（2）Plasma系統：

本系統借助于輝光放電產生等離子體，輝光放電等離子體中，電子密度高，通過反應氣態放電，有效利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給方式。

（3）爐管轉動系統：

爐管轉動系統可以讓爐管360°勻速轉動，轉速在0.25-25r/min連續可調。

（4）觸屏操作系統：該系統可以讓設備在自動模式下高度自動化運行，所有參數程序設定好后自動運行：可實現按照設定程序連續工作，可設置多工作段不同參數，并可進行某工作段循環工作及某程序循環工作。

（5） 進出氣法蘭組件：設備法蘭左端為進氣端，一側配有球閥控制的進氣口，另一側預留KF25接口，上部配有壓力表，左側端面為KF50接口。右端為出氣端，一側由球閥控制的出氣口，另一側為KF25抽口，上部配有真空計，右側端面為KF50接口。

（6）爐管：爐管為異形石英管，通過左右兩端磁流體密封法蘭實現真空下的回轉，

（7）真空系統：由一個電容真空計和一臺DRV16機械泵組成，抽口端由KF25手動擋板閥控制，并配有粉塵過濾器。

三、技術參數