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桌面式磁控濺射設備—MS-200品牌
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安徽樣本
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MS-200磁控濺射設備是一款小型臺面式濺射系統，具有高真空、單原子層沉積精度的特點，可以靈活選擇陰極向上或向下濺射。設備標配1個2英寸超高真空陰極。滿足簡單的材料研究需求。
晶圓尺寸 | 4inch向下兼容 |
鍍膜均勻性 | 優于±2% |
極限真空 | 1×10-8mbar |
溫控 | RT-800℃ |
陰極數量 | 3個2inch靶頭共焦濺射 |
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