產品應用：

PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。

產品組成：

PECVD系統配置：

1.1200度開啟式雙溫區真空管式爐

2.滑動系統分為手動、電動滑動，并配置管內測溫系統。

3.預加熱開啟式管式電爐

4.等離子射頻電源

5.多路質量流量控制系統

6.真空系統（可選配中真空或高真空）  

產品特點：

生長溫度低；沉積速率快；成膜質量好，適用范圍廣，設備簡單。