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天津中環電爐股份有限公司
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產品用途
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。
PECVD系統配置；
1.1200度開啟式滑動單溫區真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質量流量控制系統
4.真空系統（單獨購買）
產品特性;
電源范圍廣；溫度范圍寬；濺射區域長；整管可調；精致小巧，性價比高，可實現快速升降溫，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的理想選擇，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。
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企業名稱
天津中環電爐股份有限公司企業類型
信用代碼
91120113700587236G法人代表
注冊地址
成立日期
注冊資本
有效期限
經營范圍
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