單一磨料

推薦CMP拋光液中，SiO2磨料的分散穩定性很重要！

中國粉體網訊 拋光液中磨料的作用主要是在晶圓和拋光墊的界面之間進行機械研磨，以確保CMP過程中的高材料去除率。同時，磨料也是影響拋光液穩定性的重要因素之一。眾多磨料中，SiO2磨料因其低黏度和低硬度的特性被廣泛應用于CMP領[更多]