陳傳東

推薦這些影響稀土鈰基磨料的的拋光效率的因素，值得關注！

中國粉體網訊 化學機械拋光（CMP）技術是實現材料全局表面平坦化的重要手段，稀土鈰基磨料因其具有顆粒硬度適中、可與被拋光材料發(fā)生化學反應、可回收性和資源豐富等優(yōu)勢是目前應用最廣泛的CMP磨料。在稀土材料用于拋光粉之前，人們通[更多]