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薄膜制備

推薦ALD緣何成為一項半導體領域的關鍵技術

中國粉體網訊經過將近30年的發展，作為功能薄膜制備中的一項關鍵技術，原子層沉積（ALD）技術在催化、半導體、光學等眾多領域都發揮著十分重要的作用。ALD最初用于平板顯示器所需的多晶熒光材料ZnS、Mn以及非晶Al2O3絕緣[更多]

資訊原子層沉積技術 ALD 薄膜制備半導體應用

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