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Primo Twin-Star? 12 英寸刻蝕設備品牌
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產品特點
雙反應臺腔體設計
低電容耦合3D線圈設計
高抽速大容量渦輪泵
雙通道進氣
精密的腔體溫控和RF窗口溫控系統
先進的高致密性、耐等離子體侵蝕涂層工藝多區動態溫控靜電吸盤
13兆赫或400千赫脈沖偏壓系統
可選的集成除膠反應腔
離子濃度和離子能量獨立可控
高排氣量和更寬的工藝窗口
優秀的刻蝕均勻性
優異的高深寬比刻蝕性能
高生產效率，低生產成本（CoO）
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