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納米高純硅研磨粒子是拋光液*主要的組成部分，在拋光過程中通過微切削、滾壓等方式作用于
被加工材料表面，達到機械去除材料的作用。納米高純硅是以水玻璃為原材料制備的硅溶膠研磨粒
子。鼎龍自主開發(fā)了具有純度高、粒徑分布窄、去除效率高的納米高純硅研磨粒子，實現了拋光液
核心原材料自主可控。
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