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來之ZEISS公司**設計的高級研究用正立熒光顯微鏡，采用全新的設計理念，可以滿足您對熒光圖像質量的**要求。
技術特性與參數：
***的光學系統-IC2S色差反差雙重校正光學系統
**技術體現**熒光成像
復消色差熒光光路
HE高效熒光濾片組--縮短50%曝光時間
全電動自調汞燈--熒光定量比較的可靠保證
EC"Plan-Neofluar"--全新設計的高熒光通透性物鏡
Light Trap 光陷阱技術--背光雜散光消除
"Imaging Cell"--機身內的小型“防震臺”
全新設計的透射光DIC成像
考慮周詳的人機工程學設計
| 光學系統 | IC2S |
| 操作方式 | 手動或電動 |
| 觀察方式 | 明場、暗場、相差、DIC、熒光、偏光 |
| 電動部件 | 光源管理、光反差管理、物鏡、熒光濾鏡、聚焦、透射光組件、 反射光/熒光組件等 |
| 透射光裝置 | 包含在主機內 |
| 熒光轉盤 | 6位（手動、編碼、電動），10位（電動） |
| 物鏡 | 1X 100X，各系列 |
| 目鏡 | 10倍，視場數23或25 |
| 載物臺 | 機械載物臺、掃描載物臺 |
| 光源 | 透射光：12V100W鹵素燈，LED燈。 反射光：100W/50W汞燈，75W疝燈，120W長壽命金屬鹵化物燈， 12V100W鹵素燈，LED燈等。 |
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