項目

技術指標

儀器型號

EMPro31

激光波長

632.8nm (He-Ne Laser)

（^1）膜層厚度精度

0.01nm (對于平面Si基底上100nm的SiO₂膜層)

（^1）折射率精度

1x10^-4 (對于Si基底上100nm的SiO₂膜層)

單次測量時間

與測量設置相關，典型0.6s

結構

PSCA（Δ在0°或180°附近時也具有極高的準確度）

激光光束直徑

1mm

入射角度

40°-90°可手動調節，步進5°

樣品方位調整

• Z軸高度調節：±6.5mm
• 二維俯仰調節：±4°
• 樣品對準：光學自準直和顯微對準系統

樣品臺尺寸

平面樣品直徑可達Φ170mm

**的膜層范圍

• 透明薄膜可達4000nm
• 吸收薄膜則與材料性質相關

**外形尺寸

887 x 332 x 552mm (入射角為90º時)

儀器重量（凈重）

25Kg

選配件

• 水平XY軸調節平移臺
• 真空吸附泵

軟件

ETEM軟件：

• 中英文界面可選；
• l多個預設項目供快捷操作使用；
• l單角度測量/多角度測量操作和數據擬合；
• 方便的數據顯示、編輯和輸出
• 豐富的模型和材料數據庫支持