應用：

◆ASML、Nikon、Canon光刻機等。

技術參數：

日本Gigaphoton公司是全球頂尖的深紫外光刻機（DUV Scanner）的光源供應商，其研發并生產的KrF（248nm）準分子激光與ArF（193nm）準分子激光代表了當今半導體業界的*前沿技術。

主要特點：

◆波長控制技術：通過使用Piezo控制技術使得波長控制響應時間大為縮短；

◆腔體壽命延長：通過改進腔體電極的材料，使得腔體壽命進一步延長；

◆KrF：技術成熟，穩定性高（Uptime 達99.9%），耗材壽命長，現已成為各大半導體廠商標準配置；

◆ArF：設計先進，穩定性高，CoC（運行成本）與CoD（停機維護成本）都達到了業界**水平；

◆ArF Immersion：ArF 浸潤式是目前可量產的光刻技術極限。Gigaphoton 是一個被半導體廠商和光刻機廠商認可的光源供應商，也是*早進入量產階段的廠商。其設計先進，具有波長和帶寬穩定控制技術、耗材復用及長壽命技術、化學氣體長周期使用等一系列提高性能與穩定性并降低運行成本的核心技術。ArF Immersion機臺率先使用了帶寬控制(BCM)技術，能夠穩定的控制E95，減少CD Error的出現。