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URE-2000系列紫外單面光刻機
.URE-2000/A8紫外光刻機
主要產品技術特征及指標：
•曝光面積：200mmx200mm ;
•分辨力：2um ;
•對準精度：2um ;
•掩模尺寸:5英寸、礫寸、9英寸;
•樣片尺寸:碟寸、礫寸、8英寸;
• wafer chuc棲面：防止光反射涂層;
•掩模樣片整體運動范圍:X : 10mm;Y:10mm ;
•掩模相對于樣片運動行程:X: 5mm; Y: 5mm; : 6。；
•汞燈功率：100QW （直流）;
•曝光能*密度：2 15mW/cm2 ;
•光源能■控制:光源恒功率（每日測嵐光強，微調recipe（參考356nm波長）；
•曝光峰值波長365 nm ;
•曝光方式:定時（倒計時方式0.1s—9999.9s）;
•光刻版夾具兼容性
•具有盲曝粗對準功能.
產品型號 | 曝光面積 | 光刻分辨力 | 汞燈功率 | 照明不均勻性 |
URE-2000B | lOOmmXIOOmm | 0.8 pm （膠厚2 pm的正膠） | 1000W13iE （德國歐司朗） 刼礎 | 2.5% （＜D100mm 范圍 ） |
URE-2000/35 | lOOmmXIOOmm | 翎力:1 pm （膠厚2 pm的正膠） | 350WM流 （徳國歐司朗） | 3% （饑00mm范圍 |
URE-2000/35A | 150mmX150mm | 1-1.2 pm （膠厚2卩m的正膠） | 350W進口顫 高 陵國歐司朗） | 6% （0150mm 范圍） |
URE-2000/30 | lOOmmxlOOmm (磔寸） | 潮力:￡1 pm （瞄 1.5|jm 的 IEK） | 談麟電源 | （35OW1：^CD 3% （＜P100mm 范圍） |
URE-2000/25 | lOOmmXIOOmm | 徹力:1.2 pm （膠厚2 pm的正膠） | 赦嶙 電源350W 直流，進口 | 3% （＜P100mm 范圍） |
URE-2000/17 （臺式） | lOOmmXIOOmm | 徹力:1.5 pm （膠厚2呻的正膠） | 200瀕口顫 （德國歐司朗） | 5% （0100mm 范圍） |
URE?2000系列雙面光刻機
URE-2000S/A8型奴面光刻機
主要產品技術特征及指標:
•采用**技術一積木錯位蠅眼透鏡消衍射技術和線條陡直增強技術，曝光圖形質量好，光刻分辯力高.
•采用**的CCD囲像底面對準，單曝光頭正面曝光實現雙面對準功能.
•采用新穎的高精度，多自由度掩模一樣片精密對準工件臺結梅掩模與樣片對準過程直觀，套刻對準速度快，精度高樣片的采
用推拉茹準平板，真空吸附式，操作方便。
•采用1000W長壽命型汞燈光源，曝光能量高，聚光角度小，光源穩定，持久。
•支持真空接觸曝光，硬接觸曝光，壓力接觸曝光，接近式曝光四種曝光功能。
•配備循環水冷卻系統，照明面溫度恒定。
•具有納米壓印接口功能.
•曝光面積:8英寸；對準精度：M±2 nm （雙面，片厚0.8mm） /0.8皿（單面）.
•掩模尺寸：礫寸、5英寸' 7英寸、9英寸.
•光刻分辨力:1pm.
•曝光方式:定時（倒計時方式0.1S-9999.9S任意設定）和定劑量.
•**膠厚：500 pm （SU8膠，用戶提供檢測條件）?
•汞燈功率:1000W （直流，進口直流高壓汞燈德國歐司朗）.
•照明不均勻性：5% （ 0200mm范圍）.
產品型號 | 曝光面積 | 光刻分辨力 | 汞燈功率 | 照明不均勻性 |
URE-2000S/A | 6詞 | 1pm | looovmnw^Hj^r （德國歐司朗） | 2% （OlOOmm 范圍） 3% （＜P150mm 范圍 |
URE-2000S/B | 篠寸 | 1pm | looovmnMMj^r （德國歐司朗） | 2% （（plOOmm 范圍） |
URE-2000S/25A | l|jm | 350W進口直流高壓汞燈 （德國歐司朗） | 3% （（PlOOmm 范圍） 5% （0150 mm范圍） | |
URE-2000S/25B | 磔寸 | 1pm | 350W進口直流高壓汞燈 （德國歐司朗） | 3% （（PlOOmm 范圍） |
URE-2000S/35L （A） | 6知 | 1pm | 紫外LED進口燈源 | 1.5% （（PlOOmm 范圍） 3% （0150 mm范圍） |
URE-2000S/35L （B） | 僥寸 | 1pm | 紫外LED進口燈源 | 1.5% （0100mm 范圍） |
URE-2000S/25S | 4鋼6知 | 1pm | 350瀕口直流高壓汞燈 （德國瞄朗） | 3% （0100mm 范圍） 5% （（P150 mm范圍） |
投影光刻機
.TYG-2000S系列投影光刻機
主要產品技術特粧及指標：
•軟件界面友好、科學、直觀.可對當前曝光區域，待曝光區域，曝光參數等信息提供實時的圖形化• •通過選
配背面對準模塊，可實現雙面對準曝光，將該機型升級為具有雙面對準曝光功能步進投影光刻機。 •配置焦面檢
測自動控制系統，焦面位置設定后，曝光過程中自動實時完成焦面調整。
•采用冷光膜與i線照明系統，曝光波長為365nm ，曝光面為冷光，曝光圖形方、陡、直.
•支持真空接觸曝光，硬接觸曝光，壓力接觸曝光，接近式曝光四種曝光功能.
•采用夸利技術-積木錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明不均勻優于2%。
•采用先進的離軸對準系統，對準過程自動完成，對各種不同大小的基片，
（含碎片）對準十分適用.
•對準精度：±0.5卩m.
•照明均勻性：2%。
•曝光面積：3mmx3 mm ~ 50mmx50mm.
•調焦臺運動靈敏度：1 jim.
•掩模尺寸：3英寸、4英寸、5英寸.
•調焦臺運動行程：5mm.
•光刻分辨力：。.3卩m ~ 5 ym.
•檢焦：CCD檢測，檢測精度0.5 pm.
.光源：350施形汞燈，
•汞燈功率：1000W （直流，進口直流高圧汞燈德國歐司朗）.
產品型號 | 曝光面積 | 光刻分辨力 | 汞燈功率 | 照明不均勻性 |
TYG-2000/A | 0.8pm - 1pm | 350W | 2% | |
TYG-2000/T1 | 0mm x 10mm | 1pm | 350W進口直流高壓汞燈 (德國歐司郎) | +2% |
TYG-2000/T2 | 20mmx20mm | 2pm | 350W進口顫mMT （德國歐司朗） | ±2% |
TYG-2OOO/T3 | 50mm x 50mm | 5pm | 350味晰汞燈 （曝光譜線：i線） | ±2% |
DS-2000系列無掩模光刻機
產品型號 | 技術特征 | 技術參數 |
DS-2000/14G 型 | 采用DMD作為數字掩模，像素數 1024x768或1920x1080或 25601600三 種選配. 采用縮小投影光刻物鏡成像，分辨力 lum0 采用**技術一一積木錯位蠅眼透鏡實 現 均明。 采用進口精密光柵、進口電機、進口導 軌、 進口絲杠實現精確工件定位和曝光 拼接， 可適應lOOmmlOOmm基片。 采用CCD 檢焦系統實現整場調平、自動 逐場調焦或 自動選場調焦曝光。 具備對準功能。 | 光源：350W球形汞燈（曝光譜線：i線）或紫 外 LED ;照明不均勻性：2% ;物鏡倍率： 7.6倍（或 14倍與選擇的DMD像素尺寸有 關）；曝光場面 積：lmmx0.7mm （或 1.9mmxl.8mm ，或 2.5mmxl.6mm ，與選 擇的DMD像素數有關）； 光刻分辨力： 1 p m ; 工件臺運動范圍： X : 100mm、 Y : 100mm ;工件臺運動定位精度：0. 5pm ;調 焦臺運動靈敏度：lpm ;對準精度：2卩 m ;調 焦臺運動行程：6mm ;檢焦：CCD檢測， 檢 測精度2微米；轉動臺行程：±6。以上；直寫 速 度：40mm2/min ;基片尺寸；外徑: 1mm— 100mm ，厚度：0.1mm--5mm。 |
DS?2000/14K型 | 采用DMD作為數字掩模，像素數 1024x768. 采用14倍縮小投影光刻物鏡成像。 采用專 利技術一一積木錯位蠅眼透鏡實 現均明。 具備對準功能。 采用進口精密光柵、進口電機、進口導 軌、 進口絲杠實現精確工件定位和曝光 拼接， 可適應lOOmmlOOmm基片。 采用CCD 檢焦系統實現整場調平、自動 逐場調焦或 自動選場調焦曝光。 | 光源：350W球形汞燈（曝光譜線：i線）或紫 外 LED ;照明不均勻性：2% ;物鏡倍率：14 倍；曝 光場面積：lmmx0.75mm ;光刻分辨 力：1 pm ; 工件臺運動范圍：X : 100mm、 Y :100mm;工件 臺運動定位精度：0.65卩 m ;調焦臺運動靈敏度： lum ; 對準精度：2pm ;調焦臺運動行程：6mm ; 檢焦： CCD檢測，檢測精度2微米；轉動臺行 程：±6°以 上；基片尺寸；外徑： 1mm—100mm ，厚度： 0.1mm--5mm。 |
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