單室真空燒結(jié)爐的設(shè)備用途、特點(diǎn)

該設(shè)備用于各種合金材料、器件、釹鐵硼磁性材料、釤鈷磁性材料、儲氫合金、活性與難熔金屬的真空燒結(jié)、時效等處理。該設(shè)備是在消化吸收國外設(shè)備優(yōu)點(diǎn)的基礎(chǔ)上，歷經(jīng)多次改進(jìn)和完善，采用獨(dú)特的內(nèi)（外）部氣流循環(huán)方式和較大的真空機(jī)組，具有冷卻均勻、速度快、爐溫均勻性好、大抽氣量、溫度均勻可控、高真空度和無滲漏等特點(diǎn)。冷卻方式分為內(nèi)循環(huán)(RVSX)和外循環(huán)(RVS)兩種方式。

控制系統(tǒng)由PLC控制動作，智能溫控儀控制溫度，控制準(zhǔn)確，自動化程度高，可實(shí)現(xiàn)全自動/手動無擾動切換及異常報警功能，操作簡單可靠。

主要技術(shù)指標(biāo)：

注：特殊規(guī)格可按用戶要求定制。