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1200℃雙溫區CVD系統
1200℃雙溫區CVD系統

參考價格

20-30萬元

型號

1200℃雙溫區CVD系統

品牌

中環

產地

天津

樣本

暫無
天津中環電爐股份有限公司

金牌會員

|

第12年

|

生產商

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產品用途:

此款CVD生長系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。

產品組成:

此款CVD系統配置:

1.1200度開啟式真空管式爐(可選配單溫區、雙溫區)。

2.多路質量流量控制系統

3.真空系統(可選配中真空或高真空)     

產品特點:

1 控制電路選用模糊PID程控技術,該技術控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單。

2 氣路快速連接法蘭結構采用本公司獨有的知識產權**設計,提高操作便捷性。

3 中真空系統具有真空度上下限自動控制功能,高真空系統采用高壓強,耐沖擊分子泵

 防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長系統使用壽命。

系統名稱

1200℃單/雙溫區CVD系統

系統型號

CVD-12II-3Z/G

CVD-12II6-3Z/G

**溫度

1200℃

加熱區長度

420mm

600mm

恒溫區長度

280mm

390mm

溫區

雙溫區

雙溫區

石英管管徑

Φ50/Φ60/Φ80mm

Φ80/Φ100mm

額定功率

3.2Kw

4.8Kw

額定電壓

220V

溫度控制

國產程序控溫系統50段程序控溫;

控制精度

±1℃

爐管**工作溫度

<1200℃

氣路法蘭

密封法蘭與管件連接的地方采用多環密封技術,在密封法蘭與管外壁間形成了密封,在管件外徑誤差較大的情況下密封仍然有效,該密封法蘭的安裝只需在**次使用設備的時候安裝

氣體控制方式

質量流量計

氣路數量

3路(可根據具體需要選配氣路數量)

流量范圍

0-500sccm(標準毫升/分,可選配)氮氣標定

精度

±1%F.S

響應時間

≤4sec

工作溫度

5-45℃

工作壓力

進氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力)

系統連接方式

采用KF快速連接波紋管、高真空手動擋板閥及數顯真空測量儀

規格

高真空

系統真空范圍

1x10-3Pa-1x10-1Pa

真空泵

真空分子泵理論極限真空度5x10-6Pa抽氣速度1200L/S額定電壓220V    功率2KW

真空分子泵理論極限真空度5x10-6Pa抽氣速度1600L/S額定電壓220V  功率2KW







爐體外形尺寸

340×580×555mm

480×770×605mm

系統外形尺寸

530x1440x750mm(不含高真空)

系統總重量

330kg

 


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產品質量

10分

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10分

易用性

10分

性價比

10分
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