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氧化銦錫靶材用途

上海矽諾國際貿易有限公司  2020-06-30  點擊1779次

在薄膜晶體管液晶顯示器(t h i n—f i l m t r a n s i s t o r—l i q u i dcrystal display,TFT—LCD)中的導電薄膜按材質分為遮光型和透光型2大類。遮光型導電薄膜就是普通的導電金屬,如鋁(A l)、銅(C u)、鉬(M o)、鉻(C r)、鈦(T i)等。透光薄膜一般是在一些半導體氧化物中摻雜金屬元素,如I TO等[1]。T FT—LCD導電薄膜的特殊性在于使用了透明的摻錫

氧化錫,所以已成為TF T—L CD的制造重要的電極材料。

T F T—L C D工藝按順序分為陣列( A r r a y )、成盒( C e l l )和模塊(Mo d u l e )。以5層薄膜圖案的工藝為例,I TO靶材主要是通過濺射(sputter)成膜工藝形成像素電極,與彩膜基板上的共用電極一起形成液晶像素的上下電極,控制液晶分子的旋轉實現顯示。其在5層薄膜圖案的工藝流程是: 濺射前清洗→ITO濺射→I T O后清洗→涂膠→曝光→顯影→顯影后檢查→I T O濕刻→刻蝕后檢查→去膠→退火→陣列終檢→激光修復

此外,I T O薄膜還有2個作用:一是存儲電容上的I T O為存儲電容的另一個電極,與第一次光刻的金屬電極一起形成了存儲電容的上下電極,2電極之間的介質層為絕緣層和鈍化層。二是外引線處的I T O為柵線和信號線金屬的保護層,為防止金屬電極直接暴露在大氣下氧化,在外引線暴露金屬電極的部分覆蓋上I T O起到保護作用。

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