在半導體行業芯片的生產過程中，環境的潔凈程度直接關乎產品的良品率。空氣中的分子污染物（AMC）是半導體生產工藝中最重要的化學污染之一，其中酸性物質（MA)、堿性物質(MB）是AMC污染物的重要組成部分，直接影響產品質量。

潔凈室AMC中酸堿性污染物的監測主要是通過離子色譜分析儀，結合人工采樣、超純水吸收法等前處理過程。此監測分析過程繁瑣低效，并可能引入人工污染的風險，導致監測數據結果偏差。

FAAS 8000ICS在線離子色譜分析系統 應用于半導體廠區氣態分子污染物（AMC）中酸性物質(MA)、堿性物質（MB）污染物的在線監測系統。系統采用撞擊式氣體吸收技術結合離子色譜分析方法，實現了多點采樣、氣體自動吸收富集、在線質量控制等全自動在線監測功能，解決了潔凈室AMC監測過程中人員投入大、數據監測頻率低、數據反饋不及時等問題。

性能特點

自控程度高

FAAS 8000ICS 實現了自動遠距離采樣、自動富集吸收、 自動質量控制、自動分析、數據自動上傳全流程自動化。避免人工誤差引入，數據準確可靠。

檢測能力強

大體積進樣濃縮，大幅提高系統檢測能力，檢出限可達亞ppt級，縮短系統運行周期。

監測范圍廣

單套系統最多可配置32個點位的樣品采集；

系統通過真空泵遠距離采樣，可覆蓋300m范圍內樣品的在線監測。

系統本底低

系統管路及閥組采用潔凈的聚四氟乙烯材料設計，滿足SEMI F57中相關析出雜質的低本底控制要求。

吸收效率高

在線雙吸收模塊設計，提高樣品吸收效率，縮短系統運行周期。

應用領域

FAAS 8000ICS在線離子色譜分析系統主要應用于潔凈室環境空氣中水溶性酸堿性污染物的在線監測，可擴展至大氣中離子污染物的檢測。

應用案例

采用FAAS 8000ICS在線監測潔凈室中的NH4+、SO42-、NO3-、NO2-、Cl-、F- 等六種離子濃度10天內變化情況。實驗結果與離線手動檢測結果一致，符合半導體潔凈室檢測要求。