增材制造的方法，如納米打印可以大大簡化高比表面積的納米多孔薄膜的制備工藝。這種薄膜材料的應用很多，包括電催化、化學、光學或生物傳感以及電池和微電子產品制造等。

因此，一種基于氣溶膠的直寫方法能夠實現具有獨特性能的無機納米結構材料的打印直寫。

印刷涂層的顆粒由 納米粒子發生器產生，經火花燒蝕產生的氣溶膠顆粒其典型粒徑在 20nm 以下，且不含表面活性劑或任何其他有機添加物質。納米粒子生產和印刷沉積的整個過程是完全自動化的，不需要進行后續有機成分的熱處理去除。

 納米印刷沉積系統

工作原理

VSP-G1 納米粒子發生器 (VSP-G1) 作為納米粒子的生產源，集成在 VSP-P1 系統中。而用于納米顆粒生產的技術稱為火花燒蝕（Spark Ablation），在室溫溫度和大氣壓條件下便可實現多種納米粒子的制備。

在氣流中產生納米氣溶膠后，這些顆粒經低真空環境下的噴嘴加速并通過撞擊沉積的方式沉積在多種類型的基材上。沉積的驅動力是沉積室和 VSP-G1 系統（噴嘴上游）之間的壓力差。通過 XYZ 載物臺控制、顯微鏡攝像頭模塊和直觀的用戶界面可以打印沉積特定的路徑，從而可以控制實驗參數，進行完全由納米粒子組成的圖案繪制。