卡博萊特蓋羅其中一款明星產品，可控惰性氣氛烘箱HTMA系列已經在光學行業，半導體芯片制造行業，金屬熱處理行業得到廣泛應用。在工藝開始前，用惰性氣體置換爐膛內的空氣，并在爐膛內保持微正壓，避免樣品在熱處理過程中氧化。HTMA系列烘箱，最高溫度范圍從400°C -700°C，可滿足不同的熱處理需求。

還有一種烘箱，爐膛也可以做到無氧環境，那就是真空烘箱，大家對這個名稱可能并不陌生。但是真空烘箱與卡博萊特蓋羅可控惰性氣氛烘箱有著很大的區別，無論是設備結構還是應用領域。我們也碰到了原本應該使用惰性氣氛烘箱的應用，錯誤地使用了真空烘箱，使得工藝失敗。下面我們就來說說可控惰性氣氛工業化箱與真空烘箱的區別，以及各自的應用領域。

獲得無氧環境的方式：

• 真空烘箱：通過真空泵將烘箱腔室內的空氣，包括氧氣和水蒸氣等抽出，使其達到低于大氣壓的狀態，通常為粗真空范圍，10E-1mbar。

• 可控惰性氣氛烘箱：通過大流量持續向氣密的爐膛內通入惰性氣體，迅速置換出爐膛內的空氣。工藝中持續通入惰性氣體，壓力接近或略高于大氣壓。

→ 總結：受限于烘箱的結構，比如真空爐膛的材質和材料壁厚；爐門的密封方式多常用非水冷硅膠密封條。真空烘箱，不可能選配一般選用隔膜泵或小型機械泵。泄漏率比專業真空設備高很多，只能達到粗真空范圍，對于無氧或需要防氧化的熱處理工藝，這個真空度及泄漏率是達不到熱處理要求的。相比較卡博萊特蓋羅HTMA氣氛烘箱，在工藝開始前用大流量惰性氣氛沖刷快速置換空氣，并在整個工藝過程中保持穩定的氣流。爐膛內始終保持微正壓，防止空氣倒流，所以氧含量遠低于50ppm。

學校社團可分為綜合社團和專業社團。綜合性社團是素質教育的第二課堂。

加熱方式：

• 真空烘箱：真空環境中，熱傳導和對流效率降低，主要依賴熱輻射傳導熱量。這可能導致加熱和冷卻速度相對較慢，腔體內溫度均勻性可能稍差，需要更精心的裝載設計。

• 可控惰性氣氛烘箱：由于在接近常壓下運行，氣體對流良好，熱傳熱效率高。溫度均勻性通常更好。

→ 總結：真空環境下由于沒有介質，熱傳導方式只能是輻射。而真空烘箱的溫度普遍不超過300°C，這時候的熱輻射能量很低，升溫慢，溫度均勻性也相對較差。這不利于光亮退火工藝，涂層烘烤等，會導致樣品的熱處理結果一致性差。而惰性氣氛烘箱內部充滿了氣氛，再加上設備本身有循環風機，熱對流的加熱方式使得爐膛內溫度均勻性好，熱處理結果一致性好，尤其是退火工藝。

操作步驟：

• 真空烘箱：

每次裝載后需要抽真空。

開門前需要充入氣體，恢復到常壓。

需要維護真空泵。

對爐膛密封性要求高，避免真空泄漏。

• 可控惰性氣氛烘箱：

每次裝載后需要用惰性氣體沖刷爐膛，但也可在升溫過程中進行。

工藝過程中，需要持續通入惰性氣體。

開門相對簡單，關閉進氣閥即可。卡博萊特蓋羅HTMA系列烘箱，打開爐門自動切斷進氣閥門。

爐門處也需要密封，廢氣出口設有單向閥門，防止空氣倒灌。

→ 總結：卡博萊特蓋羅可控惰性氣氛烘箱不僅爐膛做到了密封焊接，而且爐門處有雙重密封措施。

應用領域：

• 真空烘箱：藥品、生物制品、精細化工品、某些聚合物在低溫下快速干燥防止分解。以及去除材料內部吸附的微量水分。

• 可控惰性氣氛烘箱：金屬樣品光亮退火、催化劑前驅體熱處理、半導體晶圓退火、涂層，鍍膜烘干等。

→ 總結：兩種烘箱有著各自的適用領域。真空烘箱偏向于生物制藥、化工，除氣或去除水分等應用。可控惰性氣氛烘箱得益于氣體流對加熱，溫度均勻性好，在半導體、光學和金屬熱處理領域得到廣泛應用。

Carbolite·Gero

卡博萊特蓋羅HTMA系列可控惰性氣氛烘箱，標配氣體管路和電磁閥，可謂即插即用。還可選配諸如：爐門鎖，防止熱處理過程中鎖定爐門防止誤開；可編程自動氣體流量切換；實時氧含量監測等功能，滿足個性化需求。具體應用和配置，可向我們咨詢。

弗爾德（上海）儀器設備有限公司隸屬全球技術領先者-弗爾德集團旗下，提供最先進的樣品處理與分析設備及解決方案。旗下六大品牌：德國Retsch（萊馳）粉碎、研磨、篩分設備，德國Microtrac MRB（麥奇克萊馳）多功能粒度粒形分析儀，Carbolite?Gero（卡博萊特?蓋羅）烘箱、高溫烘箱、箱式馬弗爐、灰化爐、管式馬弗爐、氣氛馬弗爐、真空馬弗爐、高溫馬弗爐及工業定制爐，Eltra（埃爾特）碳/氫/氧/氮/硫元素分析儀，QATM（奧德鎂）切割機、鑲嵌機、磨拋機、硬度計，Erweka (艾維卡) 藥品藥劑測試設備。

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