中國粉體網訊
博來納潤鉭酸鋰襯底CMP拋光液再升級
近日，據浙江博來納潤消息，博來納潤研發團隊推出的三款鉭酸鋰襯底CMP拋光液通過客戶實測驗證。該產品線覆蓋堿性、中性、酸性各加工工藝的需求，且均具備優異的去除速率、高儲存穩定性和拋光后易清洗等優點。
博來納潤官網
萬華化學取得一項名為“一種具有均勻直立泡孔的化學機械拋光墊、制備方法及其應用”的專利
近日，國家知識產權局信息顯示，萬華化學取得一項名為“一種具有均勻直立泡孔的化學機械拋光墊、制備方法及其應用”的專利，能夠賦予拋光墊更均勻的拋光速率，還可延長拋光墊的使用壽命。
來源：國家知識產權局
鼎龍股份：公司CMP拋光墊產品具備5大優勢
近日，鼎龍股份發布投資者關系活動記錄表，公司接受3家機構調研。公司將二十多年來產品開發和成果轉化的技術經驗進行積累、整合，打造七大技術平臺，CMP拋光墊產品具備5大優勢，實現了多項“卡脖子”核心材料的國產化替代和產業化生產。
金太陽：已向富士康等頭部企業提供拋光材料和智能設備及自動化服務
近日，金太陽發布公告稱公司接待平安基金等13家機構調研。在接待調研公告中披露，公司已向富士康、捷普綠點、長盈精密等頭部制造企業主要供貨產品為拋光材料和智能設備及自動化服務。
電科裝備形成8至12英寸碳化硅材料加工智能解決方案
近日，據科技日報消息，中電科電子裝備集團有限公司培育了晶錠減薄設備、激光剝離設備、晶片減薄設備、化學機械拋光設備等明星產品，形成8至12英寸碳化硅材料加工智能解決方案。
山東大學取得一項名為“一種基于芬頓反應的堿性氮化鎵拋光液及其制備方法”的專利
近日，山東大學取得一項新專利，該發明提供的拋光液對環境友好，不腐蝕加工設備，成本低，性質穩定，無需外加輔助設備操作更方便，可長時間穩定存儲。
昂士特取得一項名為“一種用于金屬合金的化學機械拋光組合物及其拋光方法”的專利
近日，昂士特取得一項新專利，該發明中的組合物能用于金屬合金基材平面的拋光，其具有接近中性的pH值，無腐蝕拋光設備中的金屬部件的風險。
凱盛科技：2024年營收48.94億元！氧化鋯研磨球等新品研發取得多項突破
近日，凱盛科技發布2024年業績報告，報告期內，公司實現營業收入489，382.19萬元，實現利潤總額24，035.37萬元，部分新產品受到市場認可。
（中國粉體網編輯整理/山林）
注：圖片非商業用途，存在侵權告知刪除！
