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氣相二氧化硅,化學(xué)機(jī)械拋光液中的“精巧工匠”


來源:湖北匯富納米材料股份有限公司

在材料加工的精密、微觀世界里面,化學(xué)機(jī)械拋光液作為材料加工過程中不可或缺的一環(huán),對(duì)于實(shí)現(xiàn)材料表面的高精度、高光潔度和高質(zhì)量發(fā)揮著關(guān)鍵作用。它猶如一名獨(dú)具匠心的幕后藝術(shù)大師,精心雕琢著各種材料的表面,使其達(dá)到合乎要求的平整度和光潔度。在現(xiàn)代制造業(yè),尤其是半導(dǎo)體、光學(xué)等領(lǐng)域,發(fā)揮著不可替代的作用。從小小的芯片到精密的光學(xué)鏡片,從高端的電子元件到先進(jìn)的機(jī)械部件,拋光液的身影無處不在。


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而在化學(xué)機(jī)械拋光液這名“藝術(shù)大師”的背后,氣相二氧化硅猶如一名“精巧的工匠”,憑借著超微細(xì)粒徑、高表面面積、高活性等獨(dú)特的物理化學(xué)性質(zhì),在拋光過程中發(fā)揮著不俗的作用,成為化學(xué)機(jī)械拋光過程中實(shí)現(xiàn)高效、精準(zhǔn)拋光的“秘密武器”。


那么氣相二氧化硅是如何在化學(xué)機(jī)械拋光液中展現(xiàn)其能力的呢?


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首先,氣相二氧化硅有令人矚目的高純度,其 SiO?含量可高達(dá)99.9%以上,因此不會(huì)引入金屬陽離子污染,提供了純凈的拋光環(huán)境。


其次,氣相二氧化硅具有良好的穩(wěn)定性和分散性,使其能夠在在拋光液中的均勻分散,確保拋光液在拋光過程中均勻地作用,避免出現(xiàn)局部拋光過度或不足的情況,有效減少了材料表面的缺陷,達(dá)到極高的平整度和光潔度。


再者,氣相二氧化硅的硬度與單質(zhì)硅相近,這種恰到好處的硬度適配,使其在對(duì)軟金屬、硅等材料進(jìn)行拋光時(shí),能夠在不損傷材料的前提下,實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面的精細(xì)拋光,保證電子元件的性能穩(wěn)定可靠。同時(shí),在精密機(jī)械部件的制造中,軟金屬材料的拋光也需要極其小心,氣相二氧化硅的溫柔打磨特性,能夠滿足這些部件對(duì)表面質(zhì)量的嚴(yán)格要求,提高機(jī)械部件的精度和使用壽命。


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為了進(jìn)一步探究氣相二氧化硅對(duì)化學(xué)機(jī)械拋光提升效果,湖北匯富納米材料股份有限公司技術(shù)人員通過實(shí)驗(yàn)和數(shù)據(jù)進(jìn)一步驗(yàn)證了這一效果。


匯富納米技術(shù)人員從不同添加量和不同比表兩個(gè)維度對(duì)氣相二氧化硅在化學(xué)機(jī)械拋光液中的作用進(jìn)行了探究。


在添加量實(shí)驗(yàn)中,分別在化學(xué)機(jī)械拋光液中加入5%、10%和15%的親水型氣相二氧化硅HL-200,在高速分散機(jī)中充分分散20分鐘后,我們分別對(duì)玻璃片進(jìn)行1分鐘的拋光操作,隨后使用表面粗糙度儀對(duì)其粗糙程度進(jìn)行測(cè)試。


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測(cè)試結(jié)果顯示,添加5%HL-200拋光液拋拋光后的玻璃表面粗糙度Ra為0.868μm,添加10%HL-200玻璃表面粗糙度Ra為0.623μm,添加15%HL-200玻璃表面粗糙度Ra為0.104μm。當(dāng)添加量從5%增加到10%時(shí),粗糙程度降低了28%,而當(dāng)添加量從10%增加到15%時(shí),粗糙程度則降低了83%,降低幅度越來越顯著。可見隨著氣相二氧化硅添加量的增加,玻璃的粗糙程度變小,拋光液的拋光效果越來越好。


在比表面積實(shí)驗(yàn)中,分別在化學(xué)機(jī)械拋光液中加入10%親水型氣相二氧化硅HL-200、HL-300和HL-380,同樣在高速分散機(jī)中充分分散后使用鋁片分別進(jìn)行拋光實(shí)驗(yàn)。


測(cè)試結(jié)果顯示,通過肉眼觀察三組鋁片表面的粗糙度和光澤度,不同比表氣相二氧化硅在相同添加量下對(duì)鋁片的拋光的粗糙度影響相近,表面的光亮度相當(dāng)。


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氣相二氧化硅憑借其高純度、良好的穩(wěn)定性與分散性以及與多種材料適配的硬度,在拋光液中展現(xiàn)出獨(dú)特的優(yōu)勢(shì),成為眾多高精度材料加工領(lǐng)域不可或缺的關(guān)鍵成分。


展望未來,隨著 5G、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等新興技術(shù)的飛速發(fā)展,半導(dǎo)體、光學(xué)等行業(yè)對(duì)材料表面精度的要求將持續(xù)提高,這將進(jìn)一步推動(dòng)氣相二氧化硅拋光液技術(shù)的創(chuàng)新與發(fā)展。一方面,匯富納米技術(shù)人員將不斷優(yōu)化氣相二氧化硅的制備工藝和表面處理技術(shù),開發(fā)出性能更優(yōu)異、成本更合理的產(chǎn)品,以滿足不同行業(yè)日益增長(zhǎng)的需求;另一方面,隨著對(duì)拋光機(jī)理的深入理解,氣相二氧化硅拋光液將與其他先進(jìn)技術(shù)相結(jié)合,實(shí)現(xiàn)更高效、更智能的拋光過程,為材料加工領(lǐng)域帶來新的突破和發(fā)展機(jī)遇。氣相二氧化硅在拋光液中的應(yīng)用前景廣闊,它將繼續(xù)在材料加工領(lǐng)域發(fā)揮重要作用,推動(dòng)現(xiàn)代制造業(yè)向更高精度、更高質(zhì)量的方向邁進(jìn)。

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