自蔓燃高溫合成制粉技術
項目簡介
自蔓燃高溫合成（簡稱SHS）又稱燃燒合成（簡稱CS）、是近年來發展起來的一種材料合成新技術。其特點是利用物質在合成時放出的大量熱能自發地促進新物質的高溫合成。合成反應一經點燃，就能自動進行下去，無需從外部再引入熱量。整個合成過程在幾秒或幾分鐘內完成。理論上認為，SHS合成材料有以下優點：①由于在極高溫度下可揮發性雜質的氣化，一般合成的產物的純度會很高；②存在于產物中的高密度缺陷和非平衡組織歸因于SHS的高反應速度及高冷卻速度，這導致反應產物更加活潑，并保持平穩狀態等等。此外，SHS工藝本身理論上還有以下獨特的優勢：①它具有節能省時的優點；②合成用的設備相對簡單，投資少，通用性強。③靈活方便，既可以多品種小批量生產，又可以少品種大批量生產；④能合成多元復合材料；⑤無污染等。
前景分析
應用于粉末冶金、先進陶瓷、焊接、噴涂等，可比傳統方法減少費用20-50%，市場前景十分廣闊。
合作方式
技術轉讓，合作、合資開拓市場。
低溫大面積類金剛石碳膜制備技術
項目簡介
基體溫度小于150℃條件下，在等離子體環境下制備大面積、與基體無界面的類金剛石碳膜，該膜層與基體之間有良好的結合力，面積可超過160000mm2，硬度30-60GPa，摩擦系數在大氣環境下0?15，在真空下0?1，為良好的高硬度，低摩擦系數的表面膜�？勺鳛榱慵⑵骷哪湍p摩膜，是一種理想的固體潤滑劑，可代替MoS2使用。本技術已申請了國家專利。
前景分析
本技術作為耐磨減摩固體潤滑膜在大氣、真空、低溫環境下的滑動摩擦或滾動摩擦領域、耐磨領域應用后，成本下降20-60%，市場前景十分廣闊。
合作方式
據用戶需要設計專用設備，提供工藝。
噴涂聚脲彈性體技術
項目簡介
噴涂聚脲彈性體技術是國外近十年來為適應環保需求而研制開發的一種無溶劑、無污染的綠色涂裝技術，具有快速固化、高強度、高彈性、耐磨、耐熱、防腐、施工方便等特點，尤其對交雜結構及超厚涂層的施工，具有絕對優勢。我院自95年開始前期研究，96年赴美考察，97年引進設備。目前已開發出SPVA-102防水、耐磨涂層，SPVA-202艦栽直升機防滑涂層。SPVA-301阻燃裝飾涂層等產品系列，已為青島海豚表演館、上海滬東造船廠、大連理工大學等用戶進行了應用，該技術的優異力學性能和工藝性能，受到用戶的高度評價。
前景分析
可應用于以下方面：
1、交通工具（汽車車斗，火車廂體，船舶地板等）的耐磨，防腐保護
2、娛樂場所（水族館，游樂場，網球場，體育館）的防滑裝飾
3、建筑業（房頂防水，防裂，管道防水防腐）礦山粉碎，研磨設備的耐磨，減震襯里。傳統耐磨超厚（>2mm）材料多采用硫化，模壓，澆住等工藝，設備（如模具制造等）費用很高。
本技術具有在任意形狀上任意加厚的特點，經濟效益顯著，市場前景廣闊。
合作方式：
合作開發
CdTe及CdZnTe單晶生長技術
項目簡介
1、將ACRT（坩堝加速旋轉技術）用于Bridgman（布里奇曼）法單晶生長過程，研制出用于CdTe及CdZnTe單晶生長的ACRT-B晶體生長設備。2、理論上，解決了晶體生長過程對流規律，對流引起溫度場的變化，對流對溶質傳輸和成分偏析的影響等基本原理問題，實現了晶體生長工藝的優化。3、控索出CdZnTe單晶生長工藝，成功地生長了f30mm的單晶體。分析結果表明，單晶尺寸大、晶體缺陷密度低、光電子特性好。4、可自行設計開發了坩堝鍍膜、真空封裝、晶體退火等晶體生長系列輔助設備。解決了晶體加工和后續處理技術問題，獲得接近批量生產單晶體的條件。
前景分析
CdTe及CdZnTe為重要的光電子材料，用于紅外薄膜外延襯底，高性能太陽能電池、X射線及g探測器等光電子器件的制造。該技術用于高技術產品生產，附加值很高，達到200%以上，但技術難度大，國內市場主要限于國防領域。主要應用開發日本及美國市場。
合作方式
聯合開發或技術轉讓。
項目簡介
自蔓燃高溫合成（簡稱SHS）又稱燃燒合成（簡稱CS）、是近年來發展起來的一種材料合成新技術。其特點是利用物質在合成時放出的大量熱能自發地促進新物質的高溫合成。合成反應一經點燃，就能自動進行下去，無需從外部再引入熱量。整個合成過程在幾秒或幾分鐘內完成。理論上認為，SHS合成材料有以下優點：①由于在極高溫度下可揮發性雜質的氣化，一般合成的產物的純度會很高；②存在于產物中的高密度缺陷和非平衡組織歸因于SHS的高反應速度及高冷卻速度，這導致反應產物更加活潑，并保持平穩狀態等等。此外，SHS工藝本身理論上還有以下獨特的優勢：①它具有節能省時的優點；②合成用的設備相對簡單，投資少，通用性強。③靈活方便，既可以多品種小批量生產，又可以少品種大批量生產；④能合成多元復合材料；⑤無污染等。
前景分析
應用于粉末冶金、先進陶瓷、焊接、噴涂等，可比傳統方法減少費用20-50%，市場前景十分廣闊。
合作方式
技術轉讓，合作、合資開拓市場。
低溫大面積類金剛石碳膜制備技術
項目簡介
基體溫度小于150℃條件下，在等離子體環境下制備大面積、與基體無界面的類金剛石碳膜，該膜層與基體之間有良好的結合力，面積可超過160000mm2，硬度30-60GPa，摩擦系數在大氣環境下0?15，在真空下0?1，為良好的高硬度，低摩擦系數的表面膜�？勺鳛榱慵⑵骷哪湍p摩膜，是一種理想的固體潤滑劑，可代替MoS2使用。本技術已申請了國家專利。
前景分析
本技術作為耐磨減摩固體潤滑膜在大氣、真空、低溫環境下的滑動摩擦或滾動摩擦領域、耐磨領域應用后，成本下降20-60%，市場前景十分廣闊。
合作方式
據用戶需要設計專用設備，提供工藝。
噴涂聚脲彈性體技術
項目簡介
噴涂聚脲彈性體技術是國外近十年來為適應環保需求而研制開發的一種無溶劑、無污染的綠色涂裝技術，具有快速固化、高強度、高彈性、耐磨、耐熱、防腐、施工方便等特點，尤其對交雜結構及超厚涂層的施工，具有絕對優勢。我院自95年開始前期研究，96年赴美考察，97年引進設備。目前已開發出SPVA-102防水、耐磨涂層，SPVA-202艦栽直升機防滑涂層。SPVA-301阻燃裝飾涂層等產品系列，已為青島海豚表演館、上海滬東造船廠、大連理工大學等用戶進行了應用，該技術的優異力學性能和工藝性能，受到用戶的高度評價。
前景分析
可應用于以下方面：
1、交通工具（汽車車斗，火車廂體，船舶地板等）的耐磨，防腐保護
2、娛樂場所（水族館，游樂場，網球場，體育館）的防滑裝飾
3、建筑業（房頂防水，防裂，管道防水防腐）礦山粉碎，研磨設備的耐磨，減震襯里。傳統耐磨超厚（>2mm）材料多采用硫化，模壓，澆住等工藝，設備（如模具制造等）費用很高。
本技術具有在任意形狀上任意加厚的特點，經濟效益顯著，市場前景廣闊。
合作方式：
合作開發
CdTe及CdZnTe單晶生長技術
項目簡介
1、將ACRT（坩堝加速旋轉技術）用于Bridgman（布里奇曼）法單晶生長過程，研制出用于CdTe及CdZnTe單晶生長的ACRT-B晶體生長設備。2、理論上，解決了晶體生長過程對流規律，對流引起溫度場的變化，對流對溶質傳輸和成分偏析的影響等基本原理問題，實現了晶體生長工藝的優化。3、控索出CdZnTe單晶生長工藝，成功地生長了f30mm的單晶體。分析結果表明，單晶尺寸大、晶體缺陷密度低、光電子特性好。4、可自行設計開發了坩堝鍍膜、真空封裝、晶體退火等晶體生長系列輔助設備。解決了晶體加工和后續處理技術問題，獲得接近批量生產單晶體的條件。
前景分析
CdTe及CdZnTe為重要的光電子材料，用于紅外薄膜外延襯底，高性能太陽能電池、X射線及g探測器等光電子器件的制造。該技術用于高技術產品生產，附加值很高，達到200%以上，但技術難度大，國內市場主要限于國防領域。主要應用開發日本及美國市場。
合作方式
聯合開發或技術轉讓。
