派勒 PHN 0.5實驗之星納米珠磨機
派勒實驗之星研磨機  PHE 1 和PHN 0.5
中國**保護產(chǎn)品，派勒實驗之星是Pühler 系列銷棒式大流量納米珠磨機，為新型納米研磨設(shè)備。能滿足各類面漆、導(dǎo)電漿料、鋰電池、碳納米管、MLCC、等納米新材料對細度指標(biāo)的要求，用于前期研究開發(fā)，基礎(chǔ)實驗數(shù)據(jù)放大的**設(shè)備。

派勒 PHN 實驗之星納米珠磨機:的成功地應(yīng)用于高品質(zhì)和高產(chǎn)率的工業(yè)生產(chǎn)，經(jīng)過數(shù)百年創(chuàng)新和不懈追求，Pühler 納米研磨事業(yè)部已經(jīng)無可爭議成為分散和納米研磨技術(shù)方面的專家，眾所周知的派勒實驗之星 Pühler PHN  系列銷棒式大流量納米珠磨機，其整機的完成，要求其部件具有很高的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)和優(yōu)良的耐磨性能。擁有多樣的機器配置，PUHLER 可以提供**的珠磨機來滿足您的產(chǎn)品和加工工藝。 包括間隙批次式和循環(huán)式工藝。研磨珠通過**的銷棒式轉(zhuǎn)子加速器加速和獨特結(jié)構(gòu)設(shè)計大流量分離篩網(wǎng)筒使珠子在缸內(nèi)形成內(nèi)部研磨珠通路，從而確保短時間內(nèi)聚集了**能量。研磨珠的高速運轉(zhuǎn)削弱了因物料的流動導(dǎo)致研磨珠向出口方向的軸向運動。
Pühler 標(biāo)志著 PHN 已經(jīng)成功研發(fā)制造出一款中小型納米珠磨機，該款機型特點：
1）精細分散研磨從微米到納米級的不同粘度級產(chǎn)品；
2）用于通道或循環(huán)式工藝，*小批量為 500 ml
3）工程陶瓷（氧化鋯/碳化硅/特耐磨合金鋼）設(shè)計材質(zhì)，確保所研磨產(chǎn)品完全免于金屬污染；
4）整套雙端面機械密封研磨單元非常易于拆卸，便于單獨清洗和消毒；
5）基于獨有的**的大流量動態(tài)分離器，可以得到**的產(chǎn)品 - 通過馬爾文檢測得到*窄的粒徑分布；
6）容易與清洗操作均非常簡易和方便；
7）尖端的工藝控制系統(tǒng)，確保設(shè)備運轉(zhuǎn)時各數(shù)據(jù)的讀取和監(jiān)控，同時也方便將實驗數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換到工業(yè)生產(chǎn)；
8）獨特的水冷電機和冷卻系統(tǒng)設(shè)計，設(shè)備運轉(zhuǎn)安靜，噪音小于 65 dB(A) 。
應(yīng)用領(lǐng)域
派勒 Pühler PHN 實驗之星納米珠磨機：主要應(yīng)用于要求“零污染”、高硬度物料的超細研磨及分散：
1) Color paste / Color filter / TFT LCD  ：R﹑G﹑B﹑Y 及BM 已成功地分散研磨到納米級，透明度需超過90％，粘度控制在 5-15 CPS，含水率在1％以下。
2) Ink-jet Inks：顏料型Ink-jet Inks 已成功地分散研磨到納米級，粘度控制在5 CPS 以下。
3) CMP (chemical mechanical polish) slurry：半導(dǎo)體晶片研磨所需之研磨液粒徑已達納米級且能滿足無金屬離子析出要求。
4) TiOPc (optical contact)：應(yīng)用于雷射列表機光鼓上所涂布光導(dǎo)體，已研磨分散到納米級。
5) 納米級粉體研磨，如TiO2﹑ZrO2﹑Al2O3﹑ZnO﹑Clay﹑CaCo3﹑…，可分散研磨到30 nm。
6) 納米級粉體分散。如將納米粉體分散到高分子，或?qū)⒓{米級粉體添加到塑膠﹑橡膠等進行分散。
7) 醫(yī)藥達到納米級要求，且需能滿足FDA 要求。
8) 食品添加劑達到納米級之要求。如β胡蘿卜素…，需滿足GMP 要求。
9) 電子化學(xué)品達到納米級需求，且需能滿足無金屬離子析出問題。
10)其他特種**, 航空納米材料。
11)如:電子產(chǎn)業(yè)﹑光電產(chǎn)業(yè)﹑醫(yī)藥生化產(chǎn)業(yè)﹑化纖產(chǎn)業(yè)﹑建材產(chǎn)業(yè)﹑金屬產(chǎn)業(yè)﹑﹑磁性材料﹑保健品﹑生物制藥和細胞破碎﹑氧化物﹑納米材料﹑醫(yī)藥生化產(chǎn)業(yè)﹑肥皂、皮革、電子陶瓷、導(dǎo)電漿料、膠印油墨、紡織品、噴繪油墨、芯片拋光液、細胞破碎、化妝品、噴墨墨水、金屬納米材料、塑料材料、特種納米航空材料等行業(yè)。