制作方法：
CVD質量標準：
IS9001純度：
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硅基底CVD石墨烯膜
聯系電話：13685******，劉先生
硅片厚度：700微米
硅片表面氧化硅厚度：300nm
石墨烯層數：1層，2層，多層（可選）
石墨烯方阻：300-500（單層石墨烯）
石墨烯單層覆蓋率：＞95%
樣品照片：
光學顯微鏡照片：
Raman光譜
參數價格：
量大可打折
存儲條件：
建議產品在常溫下保存在干燥，低氧（無氧）的容器中，建議一個月內使用完.
CVD工藝制備的石墨烯薄膜，單層率高，尺寸大
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