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面議型號
Bhadra?立式高溫退火爐HBA150品牌
拉普拉斯產地
廣東樣本
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Bhadra?立式高溫退火爐HBA150
功能
1.激活摻入的雜質原子
2.刻蝕工藝后溝槽平滑
技術參數
適配晶圓尺寸:4,6寸
適用襯底材料:碳化硅
適用領域:功率半導體、襯底材料、科研
拉普拉斯(廣州)半導體科技有限公司,成立于2021年12月,公司以多名半導體研發、制造、零部件、設備等領域經驗豐富的從業人員為核心,致力于成為**的半導體領域核心工藝解決方案商。目前公司核心產品以晶圓段立/臥式氧化,退火,LPCVD,以及生產陶瓷基板釬焊爐,燒結爐為主,應用領域集中在半導體芯片和陶瓷基板相關生產制造。
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