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JH-404-P4S品牌
產地
石家莊樣本
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10000看了??99.999%超高純氧化釔震撼上市！稀土雜質<0.0001%，D50=0.72μm高端材料領域?的用戶又看了
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當99.999%**純度遇上亞微米級精準控制，我們重新定義氧化釔的性能極限——為您的尖端科技注入原子級純凈力量！
（所有數據優于行業**標準）
| 性能維度 | 關鍵指標 | 實測數據 | 行業意義 |
|---|---|---|---|
| 純度革命 | TREO（總稀土氧化物） | >98.5% | 稀土利用效率突破天花板 |
| Y?O?/REO純度 | ≥99.999% | ?? 全球頂尖“五個9”級別 | |
| 雜質封控 | 稀土雜質總量（La-Lu） | <0.0003% | ?? 13項雜質均低于0.0001% |
| ? 典型值：La?O? | 0.00003% | （相當于0.3ppm痕量級） | |
| ? 峰值：Dy?O? | 0.00005% | ||
| 非稀土雜質 | ?? 顛覆性潔凈度 | ||
| ? Fe?O?（磁性污染源） | 0.0005% | ?? 比醫用級標準低20倍 | |
| ? SiO?（熔融缺陷源） | 0.0001% | ?? 單晶生長零干擾保障 | |
| 物理掌控 | 中心粒徑 D50 | 0.72μm | ?? 激光級粒度一致性 |
| 灼減（1000℃失重） | 1.6% | ?? 高溫穩定性超群 |
█ 純度即性能
稀土雜質低于常規產品兩個數量級（0.0001% vs 0.01%），消除熒光淬滅/磁損耗隱患
█ 潔凈即可靠
Fe?O? ≤5ppm + SiO? ≤1ppm，滿足半導體級潔凈要求，杜絕晶體缺陷
█ 精度即效率
0.72μm窄分布粒徑，為涂層/燒結提供原子級均質化基底，良率提升30%+
激光晶體
? 消除Nd:YAG中Ce3?/Fe3?淬滅源，轉換效率突破92%
超導薄膜
? YBCO涂層靶材純度保障，臨界電流密度提升45%
高端熒光粉
? 0.00001%Eu?O?管控，實現BT.2020廣色域顯示
核用陶瓷
? 超低Cl?（0.006%），耐中子輻照壽命延長3倍
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