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外延在現代半導體行業中是關鍵的一環，在其關鍵設備MOCVD中，我們的SiC涂層盤被廣泛應用。我們的化學氣相沉積的SiC涂層解決工藝有以下幾大優勢：
1、出色的抗熱沖擊阻力
2、出色的抗物理沖擊阻力
3、出色的耐化學性
4、超高純度
5、可加工成各種復雜的形狀
6、在氧化環境下仍然可以使用
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