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MIST-CVD氧化物薄膜沉積設備 M150A品牌
萬德思諾產地
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產品圖片：
產品型號：
M150A
產品介紹：
MIST-CVD氧化物薄膜沉積設備M150A是一種新型氧化物成膜技術，具有節能安全、易操作等優點，可廣泛應用于第四代半導體Ga2O3，直接寬帶隙光電半導體材料 ZnO 等氧化物的薄膜沉積制造。
M150A 是青禾晶元開發的**一代 mist-CVD 氧化物薄膜沉積設備，致力于將半導體材料的制備技術推向新的時代。
產品特性：
技術參數：
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