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SSB200小Mask系列曝光機品牌
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產品特征
高精度
精密的光學系統和先進的測校等技術，保證設備高分辨率，支持新型顯示屏的高精度曝光。
低使用成本
較低的運營和維護費用：采用標準6英寸掩模(或其加長版)，2倍放大成像，顯著降低掩模費用。
可拼接曝光大尺寸屏
采用精密的拼接策略，依靠優良的控制能力，可實現更大尺寸顯示屏幕的拼接曝光。
工藝適應性強
支持多種基板尺寸，可選配紅外等多種對準光源波長，適應各種曝光工藝工況。具有多達45片工位的掩模版庫，每片獨立版盒，對生產制造非常方便。
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