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純化系列 | 脫除雜質ppb | |||||||||||
氣體 | 型號 | 純化工藝 | CH4 | O2 | H2O | H2 | CO | 揮發性酸VA | 揮發性堿VB | 耐熔化合物RC | 可冷凝有機物Corg | 不凝有機物Ncorg |
CO2 | PC | 吸附 (Abs) | ---- | <1 | <1 | <1 | <1 | <0.005 | <0.5 | <0.005 | <0.15 | <1 |
PCO | 催化+吸附（Cat+Abs） | <1 | <1 | <1 | <1 | <1 | <0.005 | <0.5 | <0.005 | <0.15 | <1 | |
應用領域：
純化用于半導體應用的二氧化碳
工藝介紹：
PC系列采用HPC特有純化材料，通過吸附工序，深度脫除氣體中的。上表中雜質O2、H2O、H2、CO、揮發性酸VA、揮發性堿VB、耐熔化合物RC、可冷凝有機物Corg、不凝有機物Ncorg等雜質。多個吸附器交替吸附、再生，實現對原料氣體的連續純化。
PC系列獨立氣體純化系統通過現場原位再生和先進的技術，以高可靠性、低成本及高性能，有效的脫除CO2中的污染雜質，滿足客戶現場需求.
PCO系列氣體首先通過高溫催化氧化工序，將氣體中的CH4、還原性雜質與O2反應轉化為H2O和CO2；
氣體通過多柱吸附工序深度脫除氣體中的CH4、O2、H2O、H2、CO、揮發性酸VA、揮發性堿VB、耐熔化合物RC、可冷凝有機物Corg、不凝有機物Ncorg等雜質；
吸附柱飽和后可通還原性氣體加熱再生，反復使用；
多柱交替吸附、再生，可實現對氣體的連續純化。
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