上海研倍新材料 專業生產定制 各類靶材 合金靶材

1、產品信息   

2、產品規格

定制

3、產品概述

TiSi 鈦硅靶材是一種用于物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）等薄膜沉積技術的材料。它通常用于制備具有特殊功能的薄膜材料，例如用于光學涂層、電子器件和傳感器等領域。

TiSi 鈦硅靶材具有優異的物理和化學性能，包括高熔點、良好的導熱性和化學穩定性。這使得它在高溫環境下能夠提供穩定的性能，并且在薄膜沉積過程中能夠保持較高的沉積速率和均勻性。

4、產品用途

光學涂層：TiSi 鈦硅靶材可用于制備具有特殊光學性能的薄膜材料，如反射鏡、透鏡和光學濾波器等，以滿足光學器件對于反射率、透射率和波長選擇性的要求。

電子器件：TiSi 鈦硅靶材可用于制備半導體器件、光電子器件和顯示器件的薄膜材料，以提高其導電性、光學性能和穩定性。

傳感器：TiSi 鈦硅靶材可用于制備傳感器的薄膜材料，如壓力傳感器、溫度傳感器和化學傳感器等，以提高其靈敏度和穩定性。

表面涂層：TiSi 鈦硅靶材可用于制備具有特殊表面性能的涂層，如耐磨涂層、防腐蝕涂層和陶瓷涂層等，以提高材料的耐用性和功能性。