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1、產品信息
貨號 | 厚度 | 純度（%） | 形貌 | 顏色 |
RDB-BC-Ta | 可定制 | 99.9 | 靶材 | 金屬灰色或銀灰色 |
2、產品規格
定制
3、產品概述
鉭（Ta）靶材通常用于物理蒸發沉積和磁控濺射等薄膜沉積工藝，主要應用于制備具有高溫穩定性和耐腐蝕性的薄膜。由于鉭具有良好的化學穩定性和高熔點，因此在這些領域中得到廣泛應用。例如，鉭靶材可用于制備具有高溫穩定性和耐腐蝕性能的薄膜，如在半導體制造、光學涂層、熱防護膜等領域。此外，鉭靶材還可用于制備具有特殊功能的薄膜，如防腐蝕膜、導熱膜等。
4、產品用途
高純度：鉭靶材通常具有高純度，能夠滿足各種工藝對材料純度的要求。
工藝適用性：鉭靶材可用于不同的薄膜沉積工藝，包括物理蒸發沉積和磁控濺射等。
應用領域：鉭靶材在半導體制造、光學涂層、裝飾膜等領域有廣泛的應用。
性能優異：鉭靶材具有良好的化學穩定性和耐腐蝕性能，能夠滿足高端產品對材料性能的要求。
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