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氧化硅拋光液系列，采用高純度膠態氧化硅微粒或高純度硅粉所制成的一種高純度低金屬離子型拋光產品，可避免加工元件產生刮傷的現象，用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：砷化鎵、鍺片、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、單晶硅、多晶硅、鈮酸鋰、碳酸鋰、硫系紅外玻璃珠中拋或精拋。
主要特征
根據不同需要，可生產不同粒度的產品（10-150 nm）拋光液，
主要用于產品的精拋，產品穩定，拋光速率快，表面效果好，易清洗等，不會對加工件造成物理損傷，達到高平坦化加工
粒度分布
型號 | 粒徑 (nm) | 固含量(%) | PH值 | 比重 | 密度(g/ml) |
MMP-40A | 40 | 40 | 9-11 | 1.3 | 1.15±0.05 |
MMP-60S | 60 | 40 | 9-11 | 1.3 | 1.15±0.05 |
MMP-S80A | 80 | 40 | 9-11 | 1.3 | 1.15±0.05 |
MMP-100A | 100 | 40-50 | 10-13 | 1.5 | 1.20±0.05 |
MMP-1209 | 120 | 40-50 | 10-13 | 1.5 | 1.20±0.05 |
MMP-1509 | 150 | 40-50 | 10-13 | 1.5 | 1.20±0.05 |
應用場景
應用 | 型號 | 描述 |
藍寶石精拋液 | MMP-1209 | 藍寶石系列拋光液主要由各種高級化學品和高純度膠態二氧化硅組成，特別適用于氧化鋯陶瓷、藍寶石材料的拋光（包括A\C向、單拋、雙拋、藍寶石表鏡專用拋光液和異形拋光液）。具有良好的穩定性和分散性，去除率高、表面效果好以及對工件無損傷等優點。稀釋比例高，使用周期長等特點。 |
碳化硅精拋液 | MMP-1009 | 碳化硅拋光液主要由高純度二氧化硅制備而成，具有高度分散性、良好拋光效率,去除量高，表面效果好，易清洗，滿足客戶需求。 |
陶瓷精拋液 | MMP-100A | 用于陶瓷手機后殼以及替他陶瓷材質的精拋，具有去除量高，循環壽命長，拋光性能穩定，拋光表面質量好與易清洗等特點。 |
鋁合金精拋液 | MMP-120A | 該拋光液主要用于手機中框以及鋁合金材質的精拋，拋光后的表面無橘皮、劃傷、坑點等缺陷，液體易清洗，不易結晶；客戶根據不同的工藝進行不同的調整。 |
不銹鋼精拋液 | MMP-60S | 該拋光液主要用于蘋果LOGO、攝像頭以及其他不銹鋼材質的精拋，拋光后的表面無橘皮、劃傷、坑點等缺陷，客戶根據不同的工藝進行不同的調整。 |
應用領域
硅晶圓片拋光；鍺片拋光；砷化鎵拋光；磷化銦拋光；光學晶體拋光；藍寶石襯底拋光；碳化硅襯底拋光； 硒化鋅拋光；光纖連接器拋光；光纖跳線拋光；玻璃拋光；石英拋光；
包裝規格
25KG/桶 5KG/25KG，桶裝（可根據客戶需求定制）
儲存方式
存放溫度為5°C~45°C，常規溫度25°C，避免陽光照射。
稀釋比例
稀釋需要去離子或蒸餾水，建議稀釋比例1:1~1:5。
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