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石英坩堝可在1450度以下使用，分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發展大規模集成電路的基礎材料。當今，世界半導體工業發達已用此坩堝取代了小的透明石英坩堝。
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