KLA NanoFlip原位納米壓痕力學(xué)測(cè)試模塊

NanoFlip納米壓痕儀可以提供您的材料研究實(shí)驗(yàn)室?guī)?lái)無(wú)限的便捷。高性能多功能性是NanoFlip設(shè)計(jì)的標(biāo)志，當(dāng)需要進(jìn)行成像集成，需要進(jìn)行頻繁的轉(zhuǎn)換和廣泛的樣本控制時(shí)，無(wú)論是環(huán)境測(cè)量還是原位測(cè)試，無(wú)論有無(wú)真空，都能提供同樣出色的結(jié)果。

Fib2Test技術(shù)允許用戶將樣品傾斜90度，以便在雙光束SEM內(nèi)從FIB無(wú)縫過渡到壓痕測(cè)試，而無(wú)需移除樣品。

設(shè)計(jì)為完全真空兼容，并且具有獨(dú)特的樣品觸發(fā)功能，NanoFlip非常適用于現(xiàn)場(chǎng)環(huán)境，如SEM，FIB和真空室，或者當(dāng)您的實(shí)驗(yàn)帶您遷移時(shí)，可以在任何情況下工作可以想象的成像系統(tǒng)，如AFM，光學(xué)顯微鏡和光學(xué)Pro測(cè)量?jī)x，為您提供幾乎無(wú)限的成像選項(xiàng)。

電磁執(zhí)行器用于KLA生產(chǎn)的所有系統(tǒng)，包括NanoFlip。這些執(zhí)行器是堅(jiān)固的線性裝置，固有地解耦力和位移。它們的**力為50 mN，分辨率為3 nN，超低噪聲電流小于200 nN。

NanoFlip的時(shí)間常數(shù)為20微秒，是**同時(shí)符合規(guī)格的商用納米壓痕儀，**壓痕行程為50μm，噪聲<0.1nm，數(shù)字分辨率為0.004 nm，漂移率為< 0.05nm/s。

為了確保業(yè)內(nèi)*廣泛，*可靠的數(shù)據(jù)，NanoFlip能夠?qū)崿F(xiàn)0.1 Hz至1 kHz的動(dòng)態(tài)激勵(lì)頻率。

樣品臺(tái)移動(dòng)，Z軸為25 mm，X為20 mm，Y軸為20 mm，分辨率為nm，可在大面積上精確定位樣品。

載荷框架剛度> 7 e5N/m

獨(dú)特的尖端校準(zhǔn)系統(tǒng)集成到軟件中，可實(shí)現(xiàn)快速，準(zhǔn)確和自動(dòng)的尖端校準(zhǔn)。

可用的方法包，包含聚合物，薄膜和生物材料的提示，方法和標(biāo)準(zhǔn)

可用刮擦選項(xiàng)，**正常載荷為50 mN，**刮擦距離為2.5 mm，**刮擦速度為500μm/ s。

可選的NanoBlitz地形和層析成像軟件，用于材料的3D和4D映射。