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SHI-4T或SHI-950T系列4K制冷機可特殊設計應用于中子散射和衍射實驗。這些系統帶有鋁（或者釩）中子區，將中子區壁厚減小，可**程度地減少中子束到達實驗樣品前的吸收，從而增大中子束穿過率。
SHI-4T-800中子散射用制冷機 SHI-950T中子散射用制冷機
選項包括：
●樣品在真空或交換氦氣中
●特殊的安裝法蘭匹配Goniometers
●長尾部可到達深中子阱
●大樣品區使得樣品到鋁壁間距離盡可能**
●冷指處有4K屏蔽層
●緊湊型設計滿足空間受限場合
●可更換尾部
●高溫選配至800K
特殊定制的SHI-950T，用于中子散射，溫度變化范圍從4K到800K，請查看圖紙：
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