HPA/SPM

定性和定量氣體分析模塊化和靈活的解決方案。

高壓分析儀 HPA 220

在壓力范圍高達 50 hPa 下的氣體分析

高壓分析儀 HPA 220 是一個模塊化、靈活實用的質譜儀系統，它帶有一個干式渦輪分子泵組，可用于在壓力高達 50 hPa 的真空中進行氣體分析。

根據 HPA 220 的用途，有五種不同電動氣動以及手動操作的進氣口閥可供選擇。

產品優勢

• 由于其 5 種手動、電動氣動操作的進氣口選擇，使得它在壓力高達 50 hPa 壓下為分析、監測和控制過程提供了很大的靈活性。

• 通過各種數字和模擬輸入和輸出，使系統集成方便而靈活。

• 多重操作允許多個質譜儀 系統只用一臺電腦進行數據評估。

• 緊湊的尺寸實現靈活的集成。

應用

• 在 1 · 10-7 至 50 hPa 的壓力范圍內進行真空工藝的分析、監測和控制

• 真空鍍膜系統的制造商和操作員

• 半導體生產

• 光刻

• 冶金

• 真空爐

• 研發

鍍膜工藝監測器 SPM 220

10-2 hPa 的即時鍍膜工藝氣體分析

真空鍍膜工藝監測器 SPM 220 為鍍膜工藝的定性和定量氣體分析提供了**的解決方案。HiPace 渦輪分子泵組和質譜儀系統的組合加上專門開發的鍍膜工藝監測器離子源，在高達 10-2 hPa 的壓力下，實現了精確到分鐘的工藝氣體分析。

普發真空還提供了一個帶有壓差孔板法蘭的版本作為選擇，使得在高達 10 hPa 的壓力范圍里進行直接的工藝氣體分析成為了可能。

產品優勢

• 用于瞬時過程監測的鍍膜工藝監測器離子源

• 用于 H2、O2、H2O 和 CO2 的優秀檢測限

• 對測量結果的*小化背景影響

• 壓力高達 10 hPa 的壓差版本

• 多重操作允許帶單個 PC 的多個質譜儀系統進行數據評估

• 靈活集成的緊湊尺寸

• 通過各種數字和模擬輸入和輸出，使系統集成方便而靈活

應用

• 在高達 10-2 hPa 的壓力下，鍍膜工序的分析可精確到分鐘

• 真空鍍膜系統的制造商和操作員

• 半導體生產

• 玻璃鍍膜

• 薄膜太陽能電池發電

• 研發

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