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EDAX Orbis 微束X射線熒光能譜儀(Micro XRF)

Orbis可以對各種類型、尺寸的樣品進行先進的無損元素分析，不需樣品制備，不需涂層。它可以對多元素進行快速同步的X射線檢測，含量靈敏度從百萬分之幾到100%。用戶可以對小樣品進行元素分析，如顆粒，碎片和夾雜物，也可以對大樣品進行自動多點和成像分析。

Orbis是一款臺式儀器，可以在空氣或低真空條件下，測量從Na到BK的元素。因為X射線具有穿透力和較大的光斑，Orbis比掃描電子顯微鏡更適合分析較大特點的樣品。Orbis Vision 軟件強大易用，可提供精確的元素分析。

創新的X射線光學/視頻器件幾何設計

Orbis安裝了垂直于樣品的先進的X射線光學器件和高質量的視頻像機，適合更大范圍的樣品形狀。這種創新的設計提供了真正的“你所看到的就是你所分析的”的能力。由于X射線束的阻擋而導致的錯誤測量，可以很容易地被檢測到。如果相機的視野受到阻擋，X射線也會受到阻擋。當測量有地形的樣品時，可以消除X射線束的陰影。此外，在儀器設計的工作距離外，定性分析更容易。

廣泛的應用

Orbis適合各種應用，包括刑事取證、工業質量控制和無損檢測，還有材料、電子和地質樣品分析。

Orbis 型號

Orbis有兩個型號：Orbis SDD 和 Orbis PC SDD。兩個型號都使用Orbis Vision 軟件，都有多個選項，覆蓋廣泛的需要高精度非破壞性元素分析的應用。

Orbis SDD X射線熒光能譜儀

Orbis SDD X射線熒光能譜儀非常適合需要分析大顆粒或大特征的應用，例如刑事取證和工業質量控制。該儀器配備行業**的電制冷探測器（SDD）和10倍/100倍彩色攝像機，配備了300μM單毛細管光學器件，入射束過濾系統，精密電動XYZ樣品臺和DPP分析器。

Orbis的設計消除了樣品地形阻礙X射線束帶來的不正確樣品分析。

標準配置：

● 銠管（50kV，50W）

● 300μM單毛細管光學器件

● 自動入射束濾光系統（打開位置，6個過濾器，快門）

● 雙CCD相機：10×，彩色；100x，彩色

● 先進的30mm2電制冷探測器（SDD）

● 精密電動XYZ樣品臺

● 樣品室：真空或空氣

● 電子數字信號分析儀

● 操作軟件：自動分析和定量程序，包括：

　1. 有標樣或無標樣基本參數分析

　2. 使用基本參數分析在輕元素矩陣中進行痕量元素分析

　3. 使用標樣校準進行半經驗分析

選項：

● 樣品室視窗（124mm × 124mm可視范圍）

● 先進的50mm2硅漂移探測器（SDD）

● 鉬管（50kV，50W）

● 100μM單毛細管光學器件（替代300μM單毛細管光學器件）

● 與單毛細管光學器件連接的自動準直儀（1 mm和2 mm），通過軟件控制選擇

● 軟件：譜面分布，圖像處理，線掃描，涂層分析，譜匹配，合金識別和離線數據處理軟件

Orbis PC SDD X射線熒光能譜儀

Orbis PC SDD X射線熒光能譜儀是Orbis SDD的升級版，非常適合分析小樣本或快速測量。該儀器配備先進的電制冷探測器（SDD），帶3倍數碼變焦的增強彩色攝像機，和一個30微米的多毛細管光學器件。Orbis PC SDD的樣品定位器采用升級的XYZ樣平臺，具有更高的定位精度。

標準配置：

● 銠管（50kV，50W）

● 30μM超高強度多毛細管光學器件(FWHM @ MoKα)

● 自動入射束濾光系統（打開位置，6個過濾器，快門）

● 雙CCD相機：10×，彩色；75×，彩色，帶3×數字變焦

● 先進的30mm2硅漂移探測器（SDD），無需液氮致冷

● 高精密電腦控制XYZ樣品臺

● 樣品室：真空或空氣

● 電子數字信號分析儀

● 操作軟件：自動分析和定量程序，包括：

　1. 有標樣或無標樣基本參數分析

　2. 使用基本參數分析在輕元素矩陣中進行痕量元素分析

　3. 使用標樣校準進行半經驗分析

選項：

● 樣品室視窗（124mm × 124mm可視范圍）

● 先進的50 mm2硅漂移探測器（SDD）

● 鉬管（50kV，50W）

● 與單毛細管光學器件連接的自動準直儀（1 mm和2 mm），通過軟件控制選擇

● 軟件：譜面分布，圖像處理，線掃描，涂層分析，譜匹配，合金識別和離線數據處理軟件

骨化石Ca-P-Si元素面分布圖，使用紅、綠和藍色混合器創建覆蓋。