真空快速退火爐AS-Micro

AS-Micro是一款適用于實驗室研究的真空快速退火爐，性能**。

可處理從幾平方毫米到3英寸直徑或正方形的基板。

可搭配分子泵實現高真空下熱處理工藝。

**溫度1250 ℃，*快升溫速率250℃/Second。

全程PC軟件控制升溫程序，保證溫度不過沖，控溫精度準確。

擁有雙腔室，避免交叉污染。

應用：

•快速熱退火

•植入退火

•歐姆接觸退火

•快速熱氧化（RTO）

•快速熱氮化（RTN）

•石墨烯快速熱化學氣相沉積

產品特點：

1、紅外鹵素燈管加熱，冷卻采用風冷（低噪音水平，無需壓縮空氣）；

2、加熱由功率控制而非電壓控制，避免了由于燈絲老化電阻改變導致的后續使用中加熱不均的問題，保證了良好的重現性及均溫性，即使在后續使用過程中更換了部分新的燈管也可以達到*初的熱處理效果；

3、石英腔體，腔體冷卻采用水冷，冷壁設計，雙層不銹鋼；

冷壁水冷技術優點在于：1、無記憶，2、工藝重復性高，3、冷卻速度快；

4、反應腔室的設計，氣體的進入口設計在wafer的表面，避免在退火過程中冷點的產生。很好的保證了樣品在加熱過程中的均溫性；

5、快速數字PID控溫；

6、熱電偶設計上采用中間和邊緣安裝模式，測試的樣品的溫度，控溫精準；

7、大氣和真空工藝均適合，凈化氣體配針閥；

8、*多3工藝氣體，配數字質量流量控制器；

9、電腦通過以太網連接更快的數據傳輸速度；

10、可選配石墨托盤表面涂SiC薄膜設計，用于小樣品測試；

11、可選配分子泵，用于高真空測試；

12、可選配雙腔體設計， 達到高潔凈工藝，避免交叉污染。

產品標準配置及規格參數：

1、樣品**尺寸：3-inch；

2、溫度范圍：室溫~1250 ℃；

3、升溫速率：0.1 ℃~250 ℃/s ；

4、溫度控制：快速數字PID控制；

5、熱電偶：2N型熱電偶；

6、工藝氣體氣路配質量流量計；

7、配置真空泵及真空規：

8、樣品腔室尺寸（單室）：700*700*700mm (W*D*H)；凈重82Kg；

樣品腔室尺寸（雙室）：700*700*1825mm (W*D*H；凈重142Kg；