具采用**的密封充氣紫外光學(xué)系統(tǒng)和OPI水平觀測(cè)等離子光學(xué)接口

完成消除水平觀測(cè)時(shí)尾焰的影響、全譜CCD技術(shù)和多視角等離子體定位等新技術(shù)，

有高靈敏度、高精度以及波長(zhǎng)范圍寬（130nm-770nm)等特性，在ICP-OES 領(lǐng)域

開(kāi)拓了全新的應(yīng)用，可分析包括ppm級(jí)鹵素在內(nèi)的73個(gè)金屬和非金屬元素。

技術(shù)參數(shù)：

革命性的全新設(shè)計(jì)，真正的全譜直讀！！

1.光譜范圍130－770nm

2.三光柵:3600線(xiàn)/mm(2個(gè))，1800線(xiàn)/mm(1個(gè))

3.動(dòng)態(tài)范圍大于等于8個(gè)數(shù)量級(jí)

4.可在30秒內(nèi)完成73個(gè)元素的全譜定量測(cè)試，分析速度:>=60個(gè)樣品/小時(shí)

5.*短積分時(shí)間0.1ms，可與HPLC/GC聯(lián)機(jī)使用

主要特點(diǎn)：

0.全球**可以測(cè)鹵素的ICP

1.一維色散＋32個(gè)CCD檢測(cè)器設(shè)計(jì)，檢測(cè)器無(wú)需超低溫冷卻，無(wú)需氬氣吹掃保護(hù)

2.全波長(zhǎng)覆蓋，**為130－770nm的波長(zhǎng)范圍，**可以分析ppm級(jí)鹵素

3.**密閉充氬循環(huán)光路系統(tǒng)，檢測(cè)190nm以下譜線(xiàn)，無(wú)需氣體吹掃

4.3秒實(shí)現(xiàn)真正全譜數(shù)據(jù)采集，分析速度*快

5.所有氣體流量采用質(zhì)量流量計(jì)計(jì)算機(jī)控制，矩管位置3維步進(jìn)馬達(dá)計(jì)算機(jī)控制自動(dòng)化程度高