德國海德堡Heidelberg激光直寫光刻機DWL 2000/4000

科研型與量產型兼具的激光直寫設備高速、高靈活度與高精度的光學系統4096階灰階光刻功能

DWL2000和DWL4000激光光刻系統為快速、靈活的高分辨率圖形產生器，用于制作光罩和直寫。這些系統的寫入面積高達200x200mm2與400x400mm2，是MEMS、BioMEMS、Micro Optics、ASICs、Micro Fluidics、Sensors，CGH以及所有其他微結構應用里，需快速構圖于光罩和硅片的**方案。

除了高分辨率的2D圖形之外，還提供灰度光刻曝光模式，可在厚光刻膠中創建復雜的3D結構。與其他技術相較，此光刻技術能夠在大面積中產出3D微結構。優化評估灰度曝光的特殊軟件工具，減少新圖像設計的循環時間。為了確保*低的表面粗糙度和形狀一致性，該系統支持高達4096灰度級，在業界中具備****的性能。常見的應用包括部份大型的跨國公司制造用于電信或照明產業的晶圓級光學器件，其他新應用包括顯微鏡制造以及生物學和生命科學領域的器件制造。