儀器介紹：

OBLF QSN750-II 型儀器為通用型多基體火花直讀光譜儀，可對(duì)固體金屬材料作快速成分分析，

可進(jìn)行氮及固溶物分析，可達(dá)60個(gè)分析通道。光學(xué)系統(tǒng)采用PMT檢測(cè)器，光譜范圍覆蓋多種典型材料。儀器裝備有氬氣沖洗火花臺(tái)，開(kāi)放式設(shè)計(jì)火花臺(tái)適合不同形狀和尺寸的樣品分析。該儀器可靠性好，穩(wěn)定性高，堅(jiān)固耐用，分析速度快，是冶金、鋼鐵、鑄造、有色行業(yè)理想的實(shí)驗(yàn)室快速分析儀器。

技術(shù)參數(shù)：

1.光學(xué)系統(tǒng)的焦距750mm，光柵刻線數(shù)，2400條/毫米，一級(jí)譜線色散率為0.55nm/mm。

2.光室采用真空保護(hù)，真空泵運(yùn)轉(zhuǎn)周期小于5%

3.火花放電頻率可到1000赫茲，分析一個(gè)鋼鐵樣品為15秒

4.操作溫度：12--35℃

5.WINDOWS XP操作系統(tǒng)

6.長(zhǎng)1040mm x 寬900mm x 高1300mm

7.重量:550kg

主要特點(diǎn)：

1.免維護(hù)的激發(fā)光源采用了全新的GDS（Gated discharge source脈沖放電光源）技術(shù)、全固態(tài)電路、無(wú)輔助電極。

2.由計(jì)算機(jī)控制真空泵的開(kāi)啟，真空泵的開(kāi)啟時(shí)間小于儀器全部運(yùn)行時(shí)間的5%，有效地提高了泵的使用壽命。

3.光學(xué)器件、積分板及控制電路均置于真空光室中。在真空氣氛的保護(hù)下，可不受外界環(huán)境變化的影響，具有較好的重現(xiàn)性及長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

4.激發(fā)弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室，消除光路損耗，保持?jǐn)?shù)據(jù)的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

5.獨(dú)特的自清潔開(kāi)放式激發(fā)臺(tái)，沒(méi)有靜態(tài)氬，在等待樣品分析時(shí)可以不用氬氣保護(hù)，大大的減少了氬氣的消耗量。

6.對(duì)于多基體分析，無(wú)需更換激發(fā)極板即可分析不同基體的材料.