儀器簡介

美國CETAC的激光剝蝕/激光燒蝕產品線源于全球行業翹楚之一的Photon Machines團隊（縮寫PMI），其**代產品于1995年問世，該品牌具有豐富的激光剝蝕產品設計、研發、制造及應用經驗，產品線涉及213nm固態激光、193nm準分子激光、飛秒激光系統（與ICP-MS聯用），及CO₂和二極管激光熔融系統（與惰性氣體同位素質譜聯用），此外多種高性能配件與更加直觀的分析軟件能夠增強并完善系統的功能，足以為全球元素分析用戶提供先進的激光剝蝕技術。

Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統是市面上很具操作性的飛秒系統，采用結構緊湊、全密閉的工業級激光源，無需二次校準和清潔維護。系統提供多種波長可選，如1028nm、257nm、206nm，或配置多波長切換控制，相對應的能量密度為10J/cm²(1028nm)、5J/cm²(257nm)、3J/cm²(206nm)，在長期穩定運行情況下剝蝕穩定性RSD能達到0.1%。同時系統配備HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池，提供快速沖洗效率和持續的剝蝕環境。

注：使用飛秒激光剝蝕系統用于化學分析受美國**保護（**號5656186及RE37585，由美國密歇根大學持有），隸屬于CETAC品牌的Teledyne Photon Machines持有密歇根大學提供的全球許可，用于提供飛秒激光剝蝕系統。

應用范圍

樣品種類

半導體材料；透明和半透明類樣品；石英；骨頭/化石；金屬基材料等。

主要性能參數

■ 激光源為Light Conversion-Pharos 2mJ或Pharos SP 1.5 mJ

■ 激光波長1028nm、257nm、206nm可選

■ 脈沖寬度<190fs-10ps

■ 脈沖能量可達2mJ

■ 可調脈沖頻率1-200kHz（步進1Hz）

■ 波長轉換選項廣（諧波發生器、OPA、NOPA、連續發生器）

■ 只經歷一次光學折射以減少脈沖展寬

■ 每個波長都有獨立的光路

■ 獨立的視頻和激光光學控制單元，能夠更好的查看樣品剝蝕點

■ 連續可調光斑大小1-65μm

■ 兼容HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池

■ 集成的冷卻系統減少實驗室空間