非金屬電熱元件：
其他金屬電熱元件：
其他燒結氣氛：
氮氣溫控精度：
±1℃最高溫度：
1400 ℃額定溫度：
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簡介：本設備是氧化亞硅真空蒸鍍制備的專用設備，其中反應室為鉬絲電阻加熱，收集區為金屬筒結構，有效蒸發區域不低于15L。
特色與優勢：
1.設備爐體上設有真空預抽氣口和小抽速抽氣口，有利于粉料燒結時不易被抽出。
2.加熱元件采用高純鉬絲和剛玉組件加工而成，放置于反應區，熱量輻射到坩堝對產品進行加熱，保證有效加熱區的溫度均勻性及加熱效率。
3.反應區坩堝、收集區收集倉均采用便攜可拆結構，方便取放。
項目 | 內容 |
電力總功率 | 約32 kW |
工作溫度 | 1350 ℃ |
有效工作區 | 反應區：Ф220×600㎜ |
冷態極限真空度 | 6.67× 10 -3Pa（冷態、空爐、加熱除氣后） |
加熱元件 | 鉬絲加熱 |
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